显示制造2026年7月16日 7 分钟OLED 蒸镀掩膜对准：±3 μm 背后的真空、形变与多点补偿金属掩膜与 TFT 基板不仅要在真空腔体内对准，还要面对大尺寸基板、Mask 下垂、热膨胀和像素级累积误差。阅读文章
显示制造2026年7月16日 8 分钟Mini/Micro LED 巨量转移：双面视觉如何把 Donor 对到 Backplane高精度识别只是起点。巨量转移还要同时控制阵列 Pitch、旋转、热漂移、局部形变和转移后的开路、短路与错位。阅读文章
